LPCVD
Obor:
Význam:
Low Pressure Chmical Vapour Deposition
Popis:
Nanášení speciálních CVD za nízkých tlaků (obvykle při teplotách nad 1000 stupnů C a tlaku 5 atmosfér)
Jazyk:
nezvolen
Poslední změna zkratky LPCVD byla provedena: 19.10.2001